三星显示评估半色调黑PDL工艺 CoE光掩模数量有望缩减至五道

麦站管理员 50 2026-09-23 13:10:12

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<article><section data-type="rtext"><p>【环球网科技综合报道】9月23日消息，据thelec报道称，三星显示正在评估一项名为“半色调黑PDL”的OLED工艺材料，该技术有望将无偏光片OLED（CoE）工艺中的光掩模数量从6道减少到5道，从而降低制造成本。业内人士透露，三星显示正考虑将该技术应用于***于明年发布的Galaxy S27 Ultra旗舰手机OLED面板。</p><p><i class="pic-con"></p><p>CoE（Color Filter on Encapsulation，封装上彩膜）技术通过在OLED面板上直接形成彩色滤光片和环境光反射抑制结构，取代传统偏光片，使面板更薄、光效更高。但去除偏光片后，需要额外的光刻工艺来制作彩色滤光片等结构的图案。</p>
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            <p>外媒称，自Galaxy Z Fold6起，三星显示***用了一种在彩色滤光层中不包含黑矩阵（BM）的CoE结构，目前该工艺共使用6种光掩模，分别用于黑色像素定义层（PDL）、间隔层、红绿蓝（RGB）光刻胶及覆膜等环节。</p><p>半色调黑PDL技术的核心在于，将原本需要分别使用不同材料和光掩模形成的黑色PDL层与间隔层，整合到单一材料和单次光刻工艺中完成。黑色PDL层用于分隔OLED各像素区域并吸收外部光线以减少反射，间隔层则是高于PDL层的凸起结构，用于保持面板内部上下结构之间的固定间隙。</p><p>该工艺的关键在于控制掩模的透光率。半色调工艺将掩模透光率设定为0%、20%至50%、100%三个等级，使不同区域的材料接收不同的光量，从而产生不同的固化程度，最终在一次光刻中同时形成高度不同的PDL层和间隔层。</p><p>由于光刻工艺包含材料涂覆、曝光、显影等连续步骤，将两道工序合并后可直接减少工序次数、设备运行时间和材料消耗，进而缩短生产周期并降低制造成本。若该技术导入产线，CoE工艺的光掩模数量将从6道缩减至5道。</p><p>三星显示已针对供应三星电子旗舰手机的OLED面板评估了半色调黑PDL技术的应用可行性，并正考虑将其用于明年发布的Galaxy S27 Ultra。在出货量较大的旗舰产品上应用该技术，可进一步放大光刻工序减少带来的成本节约效果。</p><p>然而，该技术能否如期量产的关键挑战在于良率控制。传统工艺允许分别对黑色PDL层和间隔层进行独立优化，而半色调工艺需使用单一材料和单次曝光同时满足两种结构的厚度与高度要求。任何厚度偏差或图案缺陷的增加，都可能抵消减少工序所带来的成本收益。</p><p>一位业内人士表示：“三星电子已对其Ultra系列智能手机进行了评估，据我了解，这项技术仍在被考虑用于下一代产品。至于是否会应用于明年的产品，将在评估工艺稳定性和良率后决定。”（青云）</p></section><img src='/image/160972-0' alt='三星显示评估半色调黑PDL工艺 CoE光掩模数量有望缩减至五道'>                            </div>

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